【中国发明,中国发明授权】一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机
有权-审定授权 中国
- 申请号：
- CN201510068222.1
- 专利权人：
- 常州工学院
- 授权公告日/公开日：
- 2017.03.08
- 专利有效期：
- 2015.02.09-2035.02.09
- 技术分类：
- C23:对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
- 转化方式：
- 转让
- 价值度指数：
-
- 58.0分
- 价格：
- 面议
发布人
朱锡芳
联系人朱锡芳
-
- 13011000141
- 专利信息&法律状态
- 专利自评
- 专利技术文档
- 价值度指数
- 发明人阵容
著录项
- 申请号
- CN201510068222.1
- 申请日
- 20150209
- 公开/公告号
- CN104674182A
- 公开/公告日
- 20150603
- 申请/专利权人
- [常州工学院]
- 发明/设计人
- [朱锡芳, 许清泉, 杨辉, 陈功, 徐安成]
- 主分类号
- C23C14/56
- IPC分类号
- C12N 9/0008(2013.01) C12N 9/16
- CPC分类号
- C12N 9/0008(2013.01) C12N 9/16(2013.01)
- 分案申请地址
- 国省代码
- 中国,CN,江苏(32)
- 颁证日
- G06T1/00
- 代理人
- [高桂珍]
摘要
本发明公开了一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，属于真空镀膜设备领域。本发明的镀膜机包括真空室、开卷机构、冷却辊、收卷机构、阴极小室、回转换靶装置和纠偏装置，开卷机构和收卷机构处各设置一组纠偏装置；阴极小室和回转换靶装置设于冷却辊的下部，且冷却辊、阴极小室和回转换靶装置处于同一轴线上；回转换靶装置包括机座、回转盘、均匀分布于回转盘上的极靶座板；极靶座板旋转到阴极小室的下方，并向外伸出将靶芯嵌入阴极小室内；开卷机构和收卷机构带动基带往复运动。本发明在不打开镀膜真空室的情况下即可及时更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的镀制，每层膜均单独镀制，便于膜层参数控制；设备结构紧凑，占地空间小。
法律状态
| 法律状态公告日 | 20171128 |
| 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 |
| 法律状态信息 | 专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/56 登记生效日:20171109 变更事项:专利权人 变更前权利人:常州工学院 变更后权利人:灵通展览系统股份有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:213022 江苏省常州市新北区巫山路1号 变更后权利人:213102 江苏省常州市武进区遥观镇长虹东路333号 |
| 法律状态公告日 | 20170308 |
| 法律状态 | 授权 |
| 法律状态信息 | 授权 |
| 法律状态公告日 | 20150701 |
| 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 法律状态信息 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/56 申请日:20150209 |
| 法律状态公告日 | 20150603 |
| 法律状态 | 公开 |
| 法律状态信息 | 公开 |
| 事务数据公告日 | 20171128 |
| 事务数据类型 | 专利申请权、专利权的转移 |
| 转让详情 | 专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/56 登记生效日:20171109 变更事项:专利权人 变更前权利人:常州工学院 变更后权利人:灵通展览系统股份有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:213022 江苏省常州市新北区巫山路1号 变更后权利人:213102 江苏省常州市武进区遥观镇长虹东路333号 |
权利要求
权利要求数量（6）
独立权利要求数量（1）
1.一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室(1)、依次设于真空室(1) 内的开卷机构(2)、冷却辊(7)、收卷机构(8)和阴极小室(10)，其特征在于：还包括回 转换靶装置(9)和纠偏装置(4)，所述的开卷机构(2)和收卷机构(8)处各设置有一组用 于改变基带(3)方向的换向辊(5)，所述的开卷机构(2)与换向辊(5)之间、收卷机构(8) 与换向辊(5)之间各设置一组纠偏装置(4)；所述的阴极小室(10)上下两面开口，且所述 的阴极小室(10)设于冷却辊(7)的下部，所述的回转换靶装置(9)设于阴极小室(10) 的下部，且冷却辊(7)、阴极小室(10)和回转换靶装置(9)处于同一轴线上；所述的回转 换靶装置(9)包括机座(901)、通过回转机构连接于机座(901)上的回转盘(903)、通过 径向伸缩机构(904)均匀分布于回转盘(903)上的两个或两个以上的用于安装靶芯(11) 的极靶座板(905)；所述的极靶座板(905)旋转到阴极小室(10)的下方，并向外伸出将靶 芯(11)嵌入阴极小室(10)内；所述的开卷机构(2)和收卷机构(8)带动基带(3)实现 往复运动。
2.根据权利要求1所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所 述的机座(901)上还设有沿回转盘(903)轴向伸缩的轴向伸缩机构(902)，用于将回转盘 (903)移至真空室(1)外部。
3.根据权利要求2所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所 述的轴向伸缩机构(902)上设有三节筒式导轨。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征 在于：所述的纠偏装置(4)为超声波纠偏系统或光电纠偏系统。
5.根据权利要求4所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所 述的开卷机构(2)与冷却辊(7)之间还设置有前处理装置(6)，所述的前处理装置(6)包 括离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构，所述的离子源预处理机构设置于开卷机构(2)和 冷却辊(7)之间，用于清洗基带(3)表面的污物；所述的冷井盘管深冷机构设于开卷机构 (2)附近，用于冷凝对基带(3)前处理过程中释放的大量水汽。
6.根据权利要求5所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所 述的阴极小室(10)上设有冷却板(1003)、补气机构(1002)和气氛隔离板(1001)，所述 的气氛隔离板(1001)设置于阴极小室(10)的两侧，所述的冷却板(1003)设置于阴极小 室(10)的侧壁上，且冷却板(1003)上分布有冷却水管(1004)，所述的补气机构(1002) 设于阴极小室(10)内，且与真空室(1)外部的补气单元相连通，所述的阴极小室(10)内 还设有抽真空机构，且该抽真空机构与真空室(1)外部的分子泵相连通。
1.一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室(1)、依次设于真空室(1)内的开卷机构(2)、冷却辊(7)、收卷机构(8)和阴极小室(10)，其特征在于：还包括回转换靶装置(9)和纠偏装置(4)，所述的开卷机构(2)和收卷机构(8)处各设置有一组用于改变基带(3)方向的换向辊(5)，所述的开卷机构(2)与换向辊(5)之间、收卷机构(8)与换向辊(5)之间各设置一组纠偏装置(4)；所述的阴极小室(10)上下两面开口，且所述的阴极小室(10)设于冷却辊(7)的下部，所述的回转换靶装置(9)设于阴极小室(10)的下部，且冷却辊(7)、阴极小室(10)和回转换靶装置(9)处于同一轴线上；所述的回转换靶装置(9)包括机座(901)、通过回转机构连接于机座(901)上的回转盘(903)、通过径向伸缩机构(904)均匀分布于回转盘(903)上的两个或两个以上的用于安装靶芯(11)的极靶座板(905)；所述的极靶座板(905)旋转到阴极小室(10)的下方，并向外伸出将靶芯(11)嵌入阴极小室(10)内；所述的开卷机构(2)和收卷机构(8)带动基带(3)实现往复运动。
2.根据权利要求1所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的机座(901)上还设有沿回转盘(903)轴向伸缩的轴向伸缩机构(902)，用于将回转盘(903)移至真空室(1)外部。
3.根据权利要求2所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的轴向伸缩机构(902)上设有三节筒式导轨。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的纠偏装置(4)为超声波纠偏系统或光电纠偏系统。
5.根据权利要求4所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的开卷机构(2)与冷却辊(7)之间还设置有前处理装置(6)，所述的前处理装置(6)包括离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构，所述的离子源预处理机构设置于开卷机构(2)和冷却辊(7)之间，用于清洗基带(3)表面的污物；所述的冷井盘管深冷机构设于开卷机构(2)附近，用于冷凝对基带(3)前处理过程中释放的大量水汽。
6.根据权利要求5所述的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的阴极小室(10)上设有冷却板(1003)、补气机构(1002)和气氛隔离板(1001)，所述的气氛隔离板(1001)设置于阴极小室(10)的两侧，所述的冷却板(1003)设置于阴极小室(10)的侧壁上，且冷却板(1003)上分布有冷却水管(1004)，所述的补气机构(1002)设于阴极小室(10)内，且与真空室(1)外部的补气单元相连通，所述的阴极小室(10)内还设有抽真空机构，且该抽真空机构与真空室(1)外部的分子泵相连通。
说明书
技术领域
本发明涉及一种真空镀膜机，更具体地说，涉及一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机。
背景技术
真空卷绕镀膜技术就是在真空室内通过热蒸发或者磁控溅射等方法在卷料基材表面制备一层或者多层具有一定功能的薄膜的技术。真空卷绕镀膜设备主要有以下特点：其一、被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二、镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三、镀膜过程在高真空环境中进行。卷绕镀膜机在放卷和收卷过程中，基材表面被镀上薄膜，镀膜的结构就是真空卷绕镀膜设备的工作部，它位于基材的收放卷之间，工作部的工作原理可以是电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者是其它真空镀膜方法中的任意一种。磁控溅射的工作过程是电子在电场的作用下加速飞向基材薄膜的过程中与溅射气体氩气碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基材薄膜，在此过程中不断地与氩原子碰撞，产生更多的氩原子和电子；氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉积在基材薄膜表面成膜。
柔性基材广泛用于有机半导体工艺、透明电极以及触摸屏当中。近年来随着对柔性基底镀膜材料的广泛需求和柔性基材上磁控溅射技术本身的飞速发展，各种高性能光学膜在大面积柔性基底上镀制成功。由于柔性基材具有连续生产简单、容易运输、可方便裁切成任意形状、可弯曲包裹等优势一直是磁控溅射技术发展的一个重要方向。因此，在塑料薄膜上镀功能膜多采用卷绕镀膜方式，而要在塑料薄膜上镀功能较好的功能膜，如在聚酯膜上镀功能较好的低反射膜(low-E膜)，最少的双银结构膜也需要镀9层以上的膜层，若镀可见光透过率大于85％、电阻小于1Ω/m2的电磁屏蔽膜(EMI膜)，则要镀四银结构膜，即17层膜层。镀每一层都要配置一套阴极及靶芯，而传统的卷绕镀膜机采用单滚整体式镀膜，即在一个镀膜真空室内安放一个冷辊，2～3个阴极、靶芯及卷材放卷机构、收卷机构，由于结构限制原因，不能在圆周排布多至4组以上的阴极，不能适应一个镀层就可以镀4层以上不同功能的膜层，即使在一个镀膜室内安放两个冷辊，4～6个阴极及靶芯，也排布不下17个阴极及靶位。为达到镀完17层膜的目的，按传统方式设计，需要至少3个冷辊，通水、通电的管线多，产生的气体放气量大，不利于真空泵经济运行，因此传统的镀膜机不能适应一个镀层就可以镀4层以上的镀膜，生产不出膜层多、功能好的功能性塑料膜层。一般情况下多个极靶布置的状态下在加工状态各阴极小室之间还存在相互之间的工艺气体的渗漏(5％～20％)，使加工得到的镀膜达不到工艺的要求。
在对阴极溅射成膜装置中，卷绕式真空镀膜设备以其可以连续生产而明显的提高了成膜的效率，然而，现有的卷绕式真空镀膜设备中对于各个用来溅射成膜阴极小室的安装数量有限，各个阴极小室的溅射时间和溅射气氛难以准确控制，成膜的稳定性差，大都只能生产一层或两层介质膜，而无法连续溅射三层介质膜，因为三层介质膜中间的介质膜的溅射成膜时间较长，成膜气氛与上下两层介质膜的气氛均不同，现有的卷绕式真空镀膜设备同步转动，单一的阴极小室的溅射成膜时间明显不够，各个阴极小室的气氛也容易相互干涉；另外，现有的卷绕式真空镀膜设备往往需要和清洁装置、加热装置、放卷和收卷机构配套使用形成生产线，这样会造成设备多、占用产地大的问题。
有鉴于此，如何设计一种仅用单一的真空镀膜设备就能连续溅射多层功能膜成为有待解决的技术问题。
发明内容
1.发明要解决的技术问题
本发明的目的在于克服现有技术的上述不足，提供一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，采用本发明的技术方案，在不打开镀膜真空室的情况下即可根据需要及时更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的镀制，简化了电气控制装置及程序，每层膜均能单独镀制，便于膜层参数的控制，提高了镀膜精度；同时，设备结构紧凑，占地空间小，尤其适合于高校实验室或小批量生产。
2.技术方案
为达到上述目的，本发明提供的技术方案为：
本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室、依次设于真空室内的开卷机构、冷却辊、收卷机构和阴极小室，还包括回转换靶装置和纠偏装置，所述的开卷机构和收卷机构处各设置有一组用于改变基带方向的换向辊，所述的开卷机构与换向辊之间、收卷机构与换向辊之间各设置一组纠偏装置；所述的阴极小室上下两面开口，且所述的阴极小室设于冷却辊的下部，所述的回转换靶装置设于阴极小室的下部，且冷却辊、阴极小室和回转换靶装置处于同一轴线上；所述的回转换靶装置包括机座、通过回转机构连接于机座上的回转盘、通过径向伸缩机构均匀分布于回转盘上的两个或两个以上的用于安装靶芯的极靶座板；所述的极靶座板旋转到阴极小室的下方，并向外伸出将靶芯嵌入阴极小室内；所述的开卷机构和收卷机构带动基带实现往复运动。
更进一步地，所述的机座上还设有沿回转盘轴向伸缩的轴向伸缩机构，用于将回转盘移至真空室外部。
更进一步地，所述的轴向伸缩机构上设有三节筒式导轨。
更进一步地，所述的纠偏装置为超声波纠偏系统或光电纠偏系统。
更进一步地，所述的开卷机构与冷却辊之间还设置有前处理装置，所述的前处理装置包括离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构，所述的离子源预处理机构设置于开卷机构和冷却辊之间，用于清洗基带表面的污物；所述的冷井盘管深冷机构设于开卷机构附近，用于冷凝对基带前处理过程中释放的大量水汽。
更进一步地，所述的阴极小室上设有冷却板、补气机构和气氛隔离板，所述的气氛隔离板设置于阴极小室的两侧，所述的冷却板设置于阴极小室的侧壁上，且冷却板上分布有冷却水管，所述的补气机构设于阴极小室内，且与真空室外部的补气单元相连通，所述的阴极小室内还设有抽真空机构，且该抽真空机构与真空室外部的分子泵相连通。
3.有益效果
采用本发明提供的技术方案，与已有的公知技术相比，具有如下显著效果：
(1)本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其开卷机构与换向辊之间、收卷机构与换向辊之间各设置一组纠偏装置，可以实现基带的往复连续运动，使基带的收卷边缘整齐，达到镀多层膜的加工目的；同时采用回转换靶装置，在不打开镀膜真空室的情况下即可根据需要及时更换阴极靶，实现多层功能膜的连续镀制，简化了电气控制装置及程序，每层功能膜均能单独镀制，便于功能膜层的参数控制，提高了镀膜精度；
(2)本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其机座上还设有沿回转盘轴向伸缩的轴向伸缩机构，用于将回转盘移至真空室外部，在一次镀膜完成后即可在真空室外部进行换靶，操作简单方便；
(3)本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其轴向伸缩机构上设有三节筒式导轨，确保了轴向伸缩机构具有足够的刚性，确保可以伸出较远的距离；
(4)本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其纠偏装置为超声波纠偏系统或光电纠偏系统，纠偏控制精准，误差小；
(5)本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其前处理装置包括离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构，离子源预处理机构设置于开卷机构和冷却辊之间，用于清洗基带表面的污物；冷井盘管深冷机构设于开卷机构附近，用于冷凝对基带前处理过程中释放的大量水汽；前处理装置对基带表面处理干净整洁，保证了镀膜加工质量。
附图说明
图1为本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机的原理示意图；
图2为本发明中的回转换靶装置的结构原理示意图；
图3为本发明中的阴极小室的结构示意图。
示意图中的标号说明：
1、真空室；2、开卷机构；3、基带；4、纠偏装置；5、换向辊；6、前处理装置；7、冷却辊；8、收卷机构；9、回转换靶装置；10、阴极小室；11、靶芯；12、进气电磁阀；13、抽气电磁阀；14、粗抽泵机组；15、深冷泵；16、分子泵抽气阀；17、分子泵；18、前级泵抽气电磁阀；19、前级泵；901、机座；902、轴向伸缩机构；903、回转盘；904、径向伸缩机构；905、极靶座板；1001、气氛隔离板；1002、补气机构；1003、冷却板；1004、冷却水管。
具体实施方式
为进一步了解本发明的内容，结合附图对本发明作详细描述。
结合图1所示，本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括执行镀膜工作的真空室1、提供镀膜工艺条件的外设泵组、检测和控制镀膜加工状态的检测控制系统；其中，真空室1内设置有开卷机构2、冷却辊7、收卷机构8、阴极小室10、回转换靶装置9和纠偏装置4，开卷机构2和收卷机构8处各设置有一组用于改变基带3方向的换向辊5，开卷机构2与换向辊5之间、收卷机构8与换向辊5之间各设置一组纠偏装置4，阴极小室10设于冷却辊7的下部，回转换靶装置9设于阴极小室10的下部，且冷却辊7、阴极小室10和回转换靶装置9处于同一轴线上，在开卷机构2与冷却辊7之间还设置有前处理装置6。外设泵组包括粗抽泵机组14、深冷泵15和分子泵组，粗抽泵机组14上如图1所示连接有用于向工艺室供气的进气电磁阀12和用于控制将真空室1内的气体快速抽出的抽气电磁阀13；深冷泵15主要用于快速对真空室1内前处理过程中产生的水汽进行冷却，配合粗抽泵机组14和分子泵组使真空室1内达到极限真空状态；分子泵组包括分子泵抽气阀16、分子泵17、前级泵抽气电磁阀18和前级泵19，前级泵19、前级泵抽气电磁阀18、分子泵17和分子泵抽气阀16依次连接后与真空室1相连，主要用于实现快速达到极限真空状态。检测控制系统包括气体分析仪、真空计、气体流量计、光纤感应探头、张力控制系统及计算机，气体分析仪设于阴极小室10内，用于分析阴极小室10内的气体成分和含量；真空计设于真空室1内，用于测量真空室1内的气压；气体流量计设于阴极小室10的进气管道上，用于控制阴极小室10的进气量；光纤感应探头伸入阴极小室10中，用于对靶材溅射出来的金属氧化物气体进行在线收集分析；张力控制系统设于开卷机构2、冷却辊7、收卷机构8及设于基带3上的张力辊上，用于控制柔性基带3的平稳运行；气体分析仪、真空计、气体流量计和光纤感应探头分别于计算机相连，用于对各个工艺参数进行计算和控制。
本发明的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，旨在对执行镀膜工作的真空室1内部结构进行改进，利用回转换靶装置9，在不打开镀膜真空室的情况下即可根据需要及时更换阴极靶，并利用收卷和放卷两组纠偏装置4实现基带3往复运动，从而实现多层膜层的连续镀制，简化了电气控制装置及程序，每层功能膜均单独镀制，便于镀膜工艺参数的控制，提高了镀膜精度；同时，设备结构紧凑，占地空间小，尤其适合于高校实验室或小批量生产。
下面结合实施例对本发明作进一步的描述。
实施例
如图1所示，本实施例的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室1、依次设于真空室1内的开卷机构2、冷却辊7、收卷机构8、上下两面开口的阴极小室10、回转换靶装置9和纠偏装置4，开卷机构2和收卷机构8处各设置有一组用于改变基带3方向的换向辊5，开卷机构2和收卷机构8设于真空室1的两侧，冷却辊7设于开卷机构2和收卷机构8之间向下的位置上，即开卷机构2、收卷机构8和冷却辊7基本位于一个等腰三角形的三个顶点上，有利于减少设备空间占用率，结构紧凑，合理利用了真空室1内的有限空间；基带3的两端分别卷绕于开卷机构2、收卷机构8上，基带3的中部经过换向辊5绕过冷却辊7的圆周表面，实现开卷机构2、冷却辊7和收卷机构8三者的同步联动，同时，在镀膜加工时，向冷却辊7中通入-15～-20℃的冷却液，用于降低镀膜所产生的高温，保证镀膜质量，在镀膜结束后，能够使冷却辊7快速回到室温状态；开卷机构2与换向辊5之间、收卷机构8与换向辊5之间各设置一组纠偏装置4，开卷机构2和收卷机构8均具有收卷和放卷功能，在收卷和放卷的往复运动中，两组纠偏装置4可以确保基带3收卷边缘整齐，从而确保了基带3往复运动的稳定性；阴极小室10设于冷却辊7的下部，且阴极小室10固定于与冷却辊7圆周表面相对应的圆柱形腔体的侧壁上，回转换靶装置9设于阴极小室10的下部，且冷却辊7、阴极小室10和回转换靶装置9处于同一轴线上，回转换靶装置9可通过回转的方式，在不打开镀膜真空室1的情况下即可根据需要及时更换阴极靶，实现了在基带3上连续镀多层膜的功能，克服了现有镀膜机在真空室1外部换靶时需要再次抽真空，浪费大量时间和能源的不足。如图2所示，本实施例给出了一种回转换靶装置9的结构原理示意图，该回转换靶装置9包括固定于真空室1底部的机座901、通过回转机构连接于机座901上的回转盘903、通过径向伸缩机构904均匀分布于回转盘903上的两个或两个以上的用于安装靶芯11的极靶座板905；此外，为了在一次镀膜完成后方便地进行靶芯11的更换，在机座901上还设有沿回转盘903轴向伸缩的轴向伸缩机构902，通过轴向伸缩机构902将回转盘903连同其上的极靶座板905伸出真空室1，无需进入真空室1就可以进行靶芯11的更换，操作简单方便；具体在本实施例中，极靶座板905均匀设置有4个，一次换靶后可至少连续镀4层以上的功能膜，且极靶座板905上的靶芯11采用法兰连接方式，方便靶芯11的拆装更换；上述的回转机构为步进电机，可以带动回转盘903做定角度旋转，控制方便、定位准确；轴向伸缩机构902包括三节筒式导轨和伸缩气缸或油缸或电动推杆，鉴于真空室1内工艺环境要求较高，因此优选电动推杆较佳，三节筒式导轨的一端固定于回转盘903上，另一端设于机座901上；本实施例中采用三节筒式导轨确保了轴向伸缩机构902具有足够的刚性，确保可以伸出较远的距离；径向伸缩机构904也为电动推杆，每个极靶座板905均由一个电动推杆控制伸缩。极靶座板905旋转到阴极小室10的下方，并通过径向伸缩机构904的推顶作用伸出嵌入阴极小室10内，实现工艺镀膜；结合开卷机构2和收卷机构8的往复运转，带动基带3往复运动，从而实现基带3单面往复连续镀多层功能膜。
本实施例的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，纠偏装置4为超声波纠偏系统或光电纠偏系统，具体地，对于透明的基带3而言，如聚酯膜等，采用超声波纠偏系统，对于不透明的基带3而言，如金属薄膜等，采用光电纠偏系统或超声波纠偏系统。上述的超声波纠偏系统或光电纠偏系统的纠偏原理为现有技术，在此就不再赘述。如图3所示，阴极小室10上还设有冷却板1003、补气机构1002和气氛隔离板1001，气氛隔离板1001设置于阴极小室10的两侧，冷却板1003设置于阴极小室10的外壁上，且冷却板1003上分布有冷却水管1004，补气机构1002设于阴极小室10内，且与外部的补气单元相连通，阴极小室10内还设有抽真空机构，且该抽真空机构与外部的分子泵相连通。
此外，本实施例的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，在开卷机构2与冷却辊7之间还设置有前处理装置6，该前处理装置6包括离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构，离子源预处理机构设置于开卷机构2与冷却辊7之间，用于清洗基带3表面的污物；冷井盘管深冷机构设于靠近开卷机构2下侧的真空室1内壁上，利用液氮作为制冷剂，可以在3～5分钟内使周围温度降到零下120℃左右，用于冷凝对基带3前处理过程中释放的大量水汽，并配合抽真空系统提高真空度。另外，为了便于观察真空室1内的工作状态，在真空室1上还开设有观察窗口。
本实施例的一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，加工时，将成卷的基带3套装于开卷机构2上，引出基带3的一端分别如图1所示绕过换向辊5和冷却辊7，并固定于收卷机构8上；将镀制膜层所需的靶芯11安装于对应的极靶座板905上；封闭真空室1，利用外设泵组对真空室1进行抽真空，实现镀膜所需工艺条件；镀膜时，开卷机构2和收卷机构8同步放卷和收卷，同时冷却辊7同步联动，实现卷绕镀膜；当开卷机构2放卷完成后(即一层膜层已经镀完)，径向伸缩机构904收缩，极靶座板905从阴极小室10内退出，回转机构根据预先设好的程序控制回转盘903转动一定角度，更换另一个靶芯11，并利用径向伸缩机构904将固定该靶芯11的极靶座板905顶出嵌入阴极小室10内，完成一次换靶；换靶完成后，开卷机构2和收卷机构8开始反向转动，即开卷机构2和收卷机构8的功能互换，冷却辊7也同步联动，实现第二层膜的镀制；重复上述步骤，以具有四组靶芯11的回转换靶装置9为例，至少可以在基带3的单面上连续镀制4层膜层；当回转换靶装置9上的靶材全部镀制完成后，停机，利用轴向伸缩机构902将回转盘903推出真空室1，在真空室1外部进行更换靶芯11。由于开卷机构2和收卷机构8处各设有一组纠偏装置4，因此可以实现基带3的往复连续运动，达到镀多层膜的加工目的；利用回转换靶装置9实现在真空室1内快速换靶，节省了换靶时间和省去了反复换靶所需的重复抽真空操作，省时节能；由于本发明中的基带3上的膜层每层均为单独镀制，因此针对每层镀膜的工艺参数均可单独控制，每层膜的厚度可以精确控制，且不会出现传统多个阴极靶同时镀膜所产生的工艺气体渗漏干涉，镀膜的精度高；此外，采用本发明的结构，磁控溅射卷绕镀膜机的结构得到明显简化，无需复杂的电气控制系统和程序，大大减少了设备占地面积，降低了设备制造成本，尤其适合于高校实验室或小批量生产。
以上示意性地对本发明及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性地设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。
价值度评估
技术价值
经济价值
法律价值
0 0 058.0分
0 50 75 100专利价值度是通过科学的评估模
型对专利价值进行量化的结果，
基于专利大数据针对专利总体特
征指标利用计算机自动化技术对
待评估专利进行高效、智能化的
分析，从技术、经济和法律价值
三个层面构建专利价值评估体
系，可以有效提升专利价值评估
的质量和效率。
总评：58.0分
该专利价值中等 （仅供参考）
本专利文献中包含【2 个技术分类】，从一定程度上而言上述指标的数值越大可以反映出所述专利的技术保护及应用范围越广。 【专利权的维持时间9 年】专利权的维持时间越长，其价值对于权利人而言越高。 尤其重要是，该专利 【权利转移1 次】、 都从侧面反应出该专利的技术、经济和法律价值。
技术价值 30.0
该指标主要从专利申请的著录信息、法律事件等内容中挖掘其技术价值，专利类型、独立权利要求数量、无效请求次数等内容均可反映出专利的技术性价值。 技术创新是专利申请的核心，若您需要进行技术借鉴或寻找可合作的项目，推荐您重点关注该指标。
部分指标包括：
授权周期（发明）
24 个月独立权利要求数量
0 个从属权利要求数量
0 个说明书页数
6 页实施例个数
0 个发明人数量
5 个被引用次数
0 次引用文献数量
0 个优先权个数
0 个技术分类数量
2 个无效请求次数
0 个分案子案个数
0 个同族专利数
0 个专利获奖情况
无保密专利的解密
否经济价值 9.0
该指标主要指示了专利技术在商品化、产业化及市场化过程中可能带来的预期利益。 专利技术只有转化成生产力才能体现其经济价值，专利技术的许可、转让、质押次数等指标均是其经济价值的表征。 因此，若您希望找到行业内的运用广泛的热点专利技术及侵权诉讼中的涉案专利，推荐您重点关注该指标。
部分指标包括：
申请人数量
1申请人类型
院校许可备案
0 次权利质押
0 次权利转移
1 个海关备案
否法律价值 19.0
该指标主要从专利权的稳定性角度评议其价值。专利权是一种垄断权，但其在法律保护的期间和范围内才有效。 专利权的存续时间、当前的法律状态可反映出其法律价值。故而，若您准备找寻权属稳定且专利权人非常重视的专利技术，推荐您关注该指标。
部分指标包括：
存活期/维持时间
9法律状态
有权-审定授权
苏公网安备 32041202001399号
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